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成像计量目标及方法 

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申请/专利权人:科磊股份有限公司

摘要:本申请实施例涉及成像计量目标及方法。本发明提供计量工具及方法,其估计对应于从周期性目标上的光散射产生的不同衍射级的形貌相位的效应,及调整测量条件以改进测量准确度。在成像中,可通过基于对比函数行为的分析选择适当测量条件、改变照明条件减小光谱宽度及照明NA、使用偏光目标及或光学系统、使用多个散焦位置等而减小叠加误差放大。可使用额外测量或额外目标单元在成像或散射测量中执行测量结果的实时校准。

主权项:1.一种用于叠加计量的方法,其包括:使用利用物镜的光学系统来成像具有目标层的成像计量目标;导出所述成像计量目标的形貌相位对测量波长的相依性;调整所述测量波长以使所述形貌相位成为π的整数倍数;以经调整的测量波长执行所述成像计量目标的成像计量测量;在所述光学系统中使用衰减器、与物镜相同的参考物镜以及可调整镜将可调整参考路径配置为林尼克Linnik干涉仪,其中所述林尼克干涉仪包含从照明源接收光的第一光束分离器及直接从与所述第一光束分离器光学连通的第二光束分离器接收光的所述可调整参考路径;调整参考信号的相位以将所述成像计量目标的形貌相位修改成π的整数倍数;使用所述衰减器以及所述参考物镜和或所述可调整镜来调整所述参考信号的振幅;以及最小化来自所述目标层的零级衍射信号与一级衍射信号之间的形貌相位差。

全文数据:

权利要求:

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