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申请/专利权人：浙江大学;浙江创芯集成电路有限公司
摘要：本发明公开了一种基于反向光刻技术的SRAF插入规则构建方法及系统，包括：建立测试图形版图，通过反向光刻技术修正测试图形版图，得到含有反向光刻生成的SRAF的测试图形版图；对SRAF进行曼哈顿化预处理，利用扫描线算法提取版图中的SRAF规则参数并建立规则化SRAF；利用K‑Means聚类算法对建立的规则化SRAF进行分类，将规则化SRAF形成多层级SRAF输出，进行规则匹配得到SRAF插入规则。这些规则参数即可用于实际版图中插入SRAF。本发明用以解决目前业界插入SRAF依赖工程师经验、求解时间长、SRAF自由度较低、工艺窗口提升效果不佳等问题。
主权项：1.一种基于反向光刻技术的SRAF插入规则构建方法，其特征在于，包括：建立测试图形版图，通过反向光刻技术修正测试图形版图，得到含有反向光刻生成的SRAF的测试图形版图；对SRAF进行曼哈顿化预处理，利用扫描线算法提取版图中的SRAF规则参数并建立规则化SRAF；利用K-Means聚类算法对建立的规则化SRAF进行分类，将规则化SRAF形成多层级SRAF输出，进行规则匹配得到SRAF插入规则。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江大学 浙江创芯集成电路有限公司 基于反向光刻技术的SRAF插入规则构建方法及系统
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