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申请/专利权人：无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司

摘要：本发明公开了一种半导体蚀刻设备的匀气装置，包括驱动电机，所述驱动电机下方连接有混合腔，所述混合腔侧面连接有两根进气管，所述混合腔下方连接有储气腔，所述储气腔周围分布有多个出气筒，每个出气筒末端转动设置有圆心的盖板；所述出气筒连接有U型的弯管，每根所述弯管均连通到喇叭型的扩散罩中；所述混合腔内分布有多层隔环，每层所述隔环开有多个通孔；与现有技术相比，本发明通过多层隔环与旋转叶片实现气体高效混合，再对混合气体进行压缩，并通过脉冲方式精准喷气，显著提升了气体混合均匀性与喷气效率，增强了蚀刻工艺的加工能力与精度。

主权项：1.一种半导体蚀刻设备的匀气装置，包括驱动电机（1），其特征在于，所述驱动电机（1）下方连接有混合腔（2），所述混合腔（2）侧面连接有两根进气管（3），所述混合腔（2）下方连接有储气腔（6），所述储气腔（6）周围分布有多个出气筒（7），每个出气筒（7）末端转动设置有圆心的盖板（8）；所述出气筒（7）连接有U型的弯管（71），每根所述弯管（71）均连通到喇叭型的扩散罩（72）中；所述混合腔（2）内分布有多层隔环（22），每层所述隔环（22）开有多个通孔（23），相邻的隔环（22）中的通孔（23）相互错开；所述混合腔（2）下端的中心设置有与储气腔（6）连通的连接管（21），所述连接管（21）内设有叶片（5），所述叶片（5）中心连接有贯穿混合腔（2）上下的转轴（4），所述转轴（4）上端连接到驱动电机（1）中；所述出气筒（7）内滑动设置有活塞（9），所述活塞（9）铰接有连杆（10），每根所述连杆（10）均铰接到一根连接柱（12）中，所述连接柱（12）与转盘（11）偏心固定，所述转盘（11）转动设置在储气腔（6）内，所述转轴（4）固定到转盘（11）的中心；所述出气筒（7）外壁滑动套设有推板（14），所述推板（14）固定有水平的导向轴（13），所述导向轴（13）滑动贯穿到储气腔（6）内，且所述导向轴（13）固定在连杆（10）中。

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