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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：提供有机膜形成用组合物、有机膜形成方法和图案形成方法。[课题]提供基板晶圆上的成膜性面内均匀性和填埋特性优异且抑制了EBR工序时的隆起的有机膜形成用组合物、使用了该组合物的有机膜形成方法和图案形成方法。[解决手段]一种有机膜形成用组合物，其特征在于，其包含有机膜形成用树脂、聚合物和溶剂，所述聚合物包含下述通式I所示的结构单元，且包含下述通式II所示的结构单元和下述通式III所示的结构单元之中的至少一者，前述下述通式I所示的结构单元与下述通式II所示的结构单元和下述通式III所示的结构单元之中的至少一者形成无规共聚物，前述聚合物的氟含有率为5质量％～16质量％。
主权项：1.一种有机膜形成用组合物，其特征在于，其包含有机膜形成用树脂、聚合物和溶剂，所述聚合物包含下述通式I所示的结构单元，且包含下述通式II所示的结构单元和下述通式III所示的结构单元之中的至少一者，下述通式II所示的结构单元和下述通式III所示的结构单元之中的至少一者与所述下述通式I所示的结构单元形成无规共聚物，所述聚合物的氟含有率为5质量％～16质量％， 式I中，R1为氢原子或碳原子数1～20的烷基；R2为具有氟原子的碳原子数1～20的磺酰基和不含氨基的有机基团， 式II中，R3为氢原子或碳原子数1～20的烷基；R4和R5分别是任选为直链或具有支链的碳原子数1～4的二价亚烷基；R6为氢原子或碳原子数1～4的烷基或苯基；m1为0～23；n1为0～23；23≥m1+n1≥2， 式III中，R7和R8为氢原子或碳原子数1～20的烷基，R9和R10分别是任选为直链或具有支链的碳原子数1～4的二价亚烷基；m2为0～23；n2为0～23；23≥m2+n2≥2。
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百度查询： 信越化学工业株式会社 有机膜形成用组合物、有机膜形成方法和图案形成方法
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