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用于纳米压印的复合结构模板及其制备方法 

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申请/专利权人:苏州光舵微纳科技股份有限公司

摘要:本发明公开一种用于纳米压印的复合结构模板及其制备方法,复合结构模板包括:压印软膜以及嵌入在压印软膜内的骨架,骨架呈镂空状,骨架用于支撑压印软膜的自重,且能够在复合结构膜板受压力时,进行毫米级弯曲。本发明结构简单,其利用骨架增加压印软膜的整体刚性,消除中心下垂。在压印时,复合结构模板仍能保有曲率变形效果及传统压印软膜的紫外光透过效果,将压印软膜上的图形等均压方式压在基材上。

主权项:1.用于纳米压印的复合结构模板,其特征在于,包括:压印软膜以及嵌入在压印软膜内的骨架,所述骨架呈镂空状,所述骨架用于支撑压印软膜的自重,且能够在复合结构膜板受压力时,进行毫米级弯曲。

全文数据:

权利要求:

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