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申请/专利权人：重庆芯联微电子有限公司
摘要：本发明提供一种光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法，测量方法包括：提供光阻层，在光阻层定义出目标光阻图形，目标光阻图形上设置有锚定点；依据定义的目标光阻图形对光阻层进行曝光显影，以形成具有锚定点的实际光阻图形；基于实际光阻图形的锚定点位置确定目标光阻图形的目标边缘；通过测量获取实际光阻图形的实际边缘；基于实际边缘与目标边缘的间距，获取实际光阻图形的光阻消退量。本发明基于锚定点可以获取光阻图形准确的目标边缘，及通过测量获得光阻图形的实际边缘后，通过实际边缘与目标边缘的间距，可以准确获得光阻图形的实际光阻消退量。
主权项：1.一种光阻消退量的测量方法，其特征在于，所述测量方法包括：提供光阻层，在所述光阻层定义出目标光阻图形，所述目标光阻图形上设置有锚定点；依据定义的目标光阻图形对所述光阻层进行曝光显影，以形成具有锚定点的实际光阻图形；基于所述实际光阻图形的锚定点位置确定所述目标光阻图形的目标边缘；通过测量获取所述实际光阻图形的实际边缘；基于所述实际边缘与所述目标边缘的间距，获取所述实际光阻图形的光阻消退量。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 重庆芯联微电子有限公司 光阻消退量的测量方法及光学邻近修正方法
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