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申请/专利权人:赫智科技(苏州)有限公司
摘要:本公开关于一种光刻处理方法、装置和电子设备,该方法包括显示光刻设备上基板对应的预设定位地图;响应于针对预设定位地图中基板的已光刻区域的定位指令,获取预设定位地图中已光刻区域的区域中心对应的第一位置信息,将第一位置信息作为待光刻图纸的中心在预设定位地图中的第二位置信息;根据第二位置信息,确定待光刻图纸的中心在基板上的第三位置信息;基于第三位置信息和基板中心位置信息,移动预设平台,以使光刻设备对准待光刻图纸的中心在基板上的位置,并进行光刻。利用本公开实施例可以快速查找已光刻区域,实现对待光刻图纸的中心的准确定位,提升光刻处理的精度和效率,减小定位误差。
主权项:1.一种光刻处理方法,其特征在于,所述方法包括:显示光刻设备上基板对应的预设定位地图,所述预设定位地图是基于所述基板的基板形状参数和所述基板对应的基板中心位置信息生成的;所述基板中心位置信息是以所述光刻设备上放置所述基板的预设平台的中心为原点的平台坐标系下所述基板的中心位置信息;所述基板形状参数和所述基板中心位置信息是在所述预设平台沿预设方向运动的过程中,对放置在所述预设平台上的基板进行边缘检测得到的;所述基板包括已光刻区域;响应于针对所述预设定位地图中所述基板的已光刻区域的定位指令,获取所述预设定位地图中所述已光刻区域的区域中心对应的第一位置信息,将所述第一位置信息作为待光刻图纸的中心在所述预设定位地图中的第二位置信息;根据所述第二位置信息,确定所述待光刻图纸的中心在所述基板上的第三位置信息;基于所述第三位置信息和所述基板中心位置信息,移动所述预设平台,以使所述光刻设备对准所述待光刻图纸的中心在所述基板上的位置,并进行光刻。
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