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申请/专利权人：武汉理工大学
摘要：本发明公开了一种低温低压下电磁场同步加载处理装置及方法，所述的低温低压下电磁场同步加载处理装置包括磁场激励模块、电场激励模块、温度压力调节模块、控制系统和腔体及设置于腔体内的样件放置位，样件放置位用于放置样件，控制系统分别与磁场激励模块、电场激励模块和温度压力调节模块连接；电场激励模块布置于样件放置位的左右两侧，磁场激励模块布置于样件放置位的上下两侧，腔体的内腔经温度压力调节模块连通有液氮罐。本发明能实现样件疲劳寿命和强韧性的显著提升。
主权项：1.一种低温低压下电磁场同步加载处理装置，其特征在于：包括磁场激励模块、电场激励模块、温度压力调节模块、控制系统和腔体及设置于腔体内腔的样件放置位，样件放置位用于放置样件，控制系统分别与磁场激励模块、电场激励模块和温度压力调节模块连接；电场激励模块布置于样件放置位的左右两侧，磁场激励模块布置于样件放置位的上下两侧，腔体的内腔经温度压力调节模块连通有液氮罐（14）。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉理工大学 一种低温低压下电磁场同步加载处理装置及方法
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