龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
申请/专利权人：江苏凯威特斯半导体科技有限公司
摘要：本发明公开了一种针对半导体化学气相沉积喷淋头的清洗方法，包括将喷淋头放置于含有甲缩醛、双氧水、丙酮清洗液中浸泡、氧气等离子清洗、氮气等离子清洗、超微纳米气泡工艺清洗、纯水超声处理等步骤。本发明采用化学等离子结合超微纳米气泡工艺的方式，对半导体化学气相沉积设备进行清洗。这种方法能够对产品表面和孔洞内部进行深层次清洗，有效去除表面和孔洞的污染物，提高清洗效果和产品质量；本发明方法不仅能够对产品表面和孔洞内部进行深层次清洗，同时，因为不涉及酸碱化学品，因此对母材的损伤较小，这一优势将大大提高半导体制造设备的清洗效率和质量，从而提高半导体产品的整体性能和使用寿命。
主权项：1.一种针对半导体化学气相沉积喷淋头的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：1将喷淋头放置于清洗液中浸泡，以去除表面的有机物，所述清洗液包含甲缩醛、双氧水、丙酮；2取出喷淋头，对其进行等离子清洗，以去除大部分硅聚物，碳氟聚合物和其他污染物，所述等离子清洗包括氧气等离子清洗和氮气等离子清洗两个步骤；3使用超微纳米气泡工艺清洗残留的污染物；4对步骤3得到的喷淋头进行纯水超声处理，吹干；5将步骤4得到的喷淋头烘干并冷却。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 江苏凯威特斯半导体科技有限公司 一种针对半导体化学气相沉积喷淋头的清洗方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号