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申请/专利权人：中国计量科学研究院
摘要：本发明公开了一种基于近场散斑的大曲率X射线光学元件面形检测方法，通过不同光路布局分别获取散斑图A、散斑图B和散斑图C的图像数据；在散斑图A和散斑图B之间进行DIC运算，获得入射光的波前分布；基于散斑图A、入射光的波前和待测光学元件的理想模型，用光学仿真技术生成参考图像；在所述参考图像与散斑图C之间进行DIC运算，获得待测光学元件的面形误差；合成待测光学元件的理想模型与面形误差，获得待测光学元件的实际面形。本发明根据近场散斑传播理论和光学元件的理想面形预测大曲率光学元件产生的散斑严重形变，进而扣除这一严重形变，准确测量面形误差，通过合成理想面形与面形误差，实现对大曲率X射线光学元件实际面形的检测。
主权项：1.一种基于近场散斑的大曲率X射线光学元件面形检测方法，其特征在于，通过分离面形误差造成的散斑位移，生成仅包含面形误差信息的参考图；合成理想面形与面形误差得到检测结果，具体包括以下步骤：获取散斑图A、散斑图B和散斑图C的图像数据；在散斑图A和散斑图B之间进行DIC运算，获得入射光的波前分布；基于散斑图A、入射光的波前和待测光学元件的理想模型，使用光学仿真技术生成参考图像；在所述参考图像与散斑图C之间进行DIC运算，获得待测光学元件的面形误差；合成待测光学元件的理想模型与面形误差，获得待测光学元件的实际面形。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国计量科学研究院 基于近场散斑的大曲率X射线光学元件面形检测方法
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