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基站、清洁装置以及释放组件 

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申请/专利权人:科沃斯机器人股份有限公司

摘要:本申请公开了一种基站、清洁装置以及释放组件。该释放组件包括基座以及释放盖。基座具有用于储存清洁溶质的储存腔。释放盖被配置为能够在第一状态和第二状态之间切换。第一状态下的释放盖导通储存腔与储液组件的储液腔,使得储存腔中的清洁溶质与储液腔中的清洁溶剂混合以形成清洁液。第二状态下的释放盖阻断储存腔与储液腔。换言之,本申请释放盖能够切换至第二状态以阻断储存腔与储液腔,使得储存腔中的清洁溶质不再接触储液腔中的清洁溶剂,能够避免释放组件中的清洁溶质过快消耗,因而能够降低释放组件维护或更换的频率,进而有利于方便用户的日常使用过程以及降低用户的使用成本。

主权项:1.一种基站,其特征在于,包括:基站主体;储液组件,设置于所述基站主体,且所述储液组件具有用于储存清洁液的储液腔,其中所述清洁液由清洁溶剂以及清洁溶质构成;以及释放组件,容置于所述储液腔中,所述释放组件包括:基座,具有用于储存所述清洁溶质的储存腔;以及释放盖,与所述基座连接,所述释放盖用于选择性地导通或阻断所述储存腔与所述储液腔;其中,所述释放盖被配置为能够在第一状态和第二状态之间切换;所述第一状态下的所述释放盖导通所述储存腔与所述储液腔,使得所述储存腔中的所述清洁溶质与所述储液腔中的所述清洁溶剂混合以形成所述清洁液;所述第二状态下的所述释放盖阻断所述储存腔与所述储液腔。

全文数据:

权利要求:

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