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申请/专利权人：昕诺飞控股有限公司
摘要：本发明提供了一种光生成系统1000，该光生成系统包括：照明模块100、接近传感器330和控制系统300，其中照明模块100包括被配置为生成包括UV辐射11的光源辐射11的光源10。UV辐射11包括波长在280nm‑320nm波长范围内的辐射。接近传感器330被配置为根据接近传感器130的视场中对象的存在，来生成接近传感器信号。控制系统300被配置为根据接近传感器信号来控制光源10。照明模块100在功能上可附接到包括显示器的设备1100。
主权项：1.一种光生成系统1000，包括a照明模块100、b接近传感器330以及c控制系统300，其中所述照明模块100包括光源10，所述光源被配置为生成光源辐射11，所述光源辐射包括UV辐射11；其中：所述UV辐射11包括具有在280nm-320nm波长范围内的波长的辐射；所述接近传感器330被配置为根据所述接近传感器330的视场中对象的存在，来生成接近传感器信号；所述控制系统300被配置为根据所述接近传感器信号，来控制所述光源10；所述照明模块100在功能上能附接到包括显示器的设备1100；并且其中：i所述接近传感器330被配置为确定所述对象与所述光源10之间的距离do；所述控制系统300被配置为基于i所述UV辐射11随时间的辐射通量和b所述接近传感器330的所述传感器信号，来确定由所述对象接收的UV辐射11的剂量Da；并且所述控制系统300被配置为将由所述对象接收的UV辐射11的所述剂量Da与预定安全剂量限制Ds进行相关，并且基于所述相关来控制所述UV辐射11的所述辐射通量；和或ii所述接近传感器330被配置为估计所述对象与所述光源10之间随时间的平均距离do,a；所述控制系统300被配置为基于i所述UV辐射11随时间的辐射通量和ii所述接近传感器330的所述传感器信号，来估计由所述对象接收的和待由所述对象接收的UV辐射11的剂量Da；并且所述控制系统300被配置为将由所述对象接收的UV辐射11的所述剂量Da与预定安全剂量限制Ds进行相关，并且基于所述相关来控制所述UV辐射11的所述辐射通量。
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