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申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
摘要：本发明涉及光学元器件加工技术领域，尤其涉及一种EUV光刻机光源系统中凹面镜表面钆去除装置及方法。装置包括：反应池的侧壁和底部分别设有注液口和排液口；凹面真空载台通过载台支架伸入反应池的内槽；凹面真空载台包括带有气孔的凹面真空吸盘和硅胶复合膜，硅胶复合膜附于所述凹面真空吸盘下方，通过气孔位置产生负压使硅胶复合膜实现凹面镜的吸附；电化学三电极体系中的工作电极通过工作电极夹固定在所述反应池的内壁底部，对电极和参比电极固定安装在反应池内部；搅动装置固定在所述反应池的侧壁；所述磁铁固定在所述反应池下方。优点在于：在保证凹面镜表面粗糙度不受影响和高反射膜层不被破坏的情况下，完成了表面杂质去除工作。
主权项：1.一种EUV光刻机光源系统中凹面镜表面钆去除装置，其特征在于，包括：反应池、凹面真空载台、电化学三电极体系、搅动装置和磁铁；所述反应池用于盛装反应液，在所述反应池的侧壁和底部分别设有注液口和排液口；所述凹面真空载台通过载台支架伸入所述反应池的内槽；所述凹面真空载台包括带有气孔的凹面真空吸盘和硅胶复合膜，所述硅胶复合膜附于所述凹面真空吸盘下方，通过所述气孔位置产生的负压使所述硅胶复合膜与凹面镜之间形成的真空环境实现凹面镜的吸附；所述电化学三电极体系包括工作电极、对电极和参比电极；所述工作电极通过工作电极夹固定在所述反应池的内壁底部，所述对电极和所述参比电极固定安装在所述反应池内部并与所述反应池内壁底部留有间隙；所述搅动装置固定在所述反应池的侧壁；所述磁铁固定在所述反应池下方，用于促进钆离子附着在所述工作电极的表面。
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百度查询： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 EUV光刻机光源系统中凹面镜表面钆去除装置及方法
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