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申请/专利权人：深圳市新凯来工业机器有限公司
摘要：本申请提供一种等离子体处理设备，涉及半导体设备技术领域，用于解决介电窗向设备本体漏热的技术问题，该等离子体处理设备包括设备本体，具有反应腔，设备本体的顶部具有与反应腔连通的开口；介电窗支撑件控温装置，被配置为向介电窗提供高温气流，以使介电窗达到预设温度；支撑件介电窗，设置于设备本体上并封盖开口；支撑件控温装置，包括支撑件和加热件，支撑件设置于设备本体和介电窗之间，加热件设置于支撑件上，且支撑件和加热件沿设备本体的周向延伸。本申请用于解决介电窗向设备本体漏热的技术问题，提高介电窗的运行可靠性的同时，保证设备本体的安全可靠性。
主权项：1.一种等离子体处理设备，其特征在于，包括：设备本体，所述设备本体围设形成反应腔，所述设备本体的顶部具有与所述反应腔连通的开口；介电窗，设置于所述设备本体上并盖设于所述开口上；介电窗控温装置，被配置为控制所述介电窗达到预设温度；支撑件控温装置，包括支撑件和加热件，所述支撑件设置于所述设备本体和所述介电窗之间，所述加热件设置于所述支撑件上，且所述支撑件和所述加热件沿所述设备本体的周向延伸。
全文数据：
权利要求：
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