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激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件的制造方法 

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申请/专利权人:JSW阿克迪纳系统有限公司

摘要:根据本实施方式的激光照射装置具备:半导体激光光源,其产生波长250nm以上且波长500nm以下的激光15;旋转工作台11,其旋转半导体基板;光学系统单元30,其将激光15向旋转工作台上的半导体基板引导;移动机构,其使光学系统单元30移动,以在当俯视时与旋转工作台的旋转方向不同的方向上改变激光15的照射位置。

主权项:1.一种激光照射装置,具备:半导体激光光源,其产生波长250nm以上且波长500nm以下的激光;旋转工作台,其旋转半导体基板;光学系统单元,其将所述激光向所述旋转工作台上的所述半导体基板引导;以及移动机构,其使所述光学系统单元移动,以在当俯视时不同于所述旋转工作台的旋转方向的方向上改变所述激光的照射位置。

全文数据:

权利要求:

百度查询: JSW阿克迪纳系统有限公司 激光照射装置、激光照射方法以及半导体器件的制造方法

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