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申请/专利权人：上海合见工业软件集团有限公司;成都融见软件科技有限公司
摘要：本发明涉及EDA技术领域，特别是涉及一种行覆盖率中毛刺的过滤方法、电子设备及存储介质，其通过在编译阶段中，在每个可执行的代码行的相邻行插入用于收集覆盖数据的缓存节点；在最后一个行节点之前插入过滤单元，过滤单元计算累计覆盖数据stmt和当前执行过程描述块时所有缓存节点收集的覆盖数据之间的按位或，得到新的累计覆盖数据；并在下一个时钟周期，将stmt更新为新的累计覆盖数据。通过该方法在不改变原始文件的基础上达到消除毛刺的目的，解决行覆盖数据虚高的问题，提高了行覆盖率数据的准确性。
主权项：1.一种行覆盖率中毛刺的过滤方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：S100，在编译阶段，获取语法树中用于表示源代码的过程描述块中可执行的代码行的所有行节点；S300，在每个行节点的相邻位置插入缓存节点；且在第一个行节点之前插入缓存节点的初始化单元，初始化单元的执行顺序在先，第一节点的相邻位置插入的缓存节点的执行顺序在后；其中，在第i个行节点的相邻位置插入的第i个缓存节点用于收集第i个行节点对应的代码行的覆盖数据；S500，在最后一个行节点之后的相邻位置插入第一过滤节点；所述第一过滤节点用于计算累计覆盖数据stmt和当前执行过程描述块时所有缓存节点收集的覆盖数据glitch之间的按位或，得到新的累计覆盖数据；并在下一个时钟周期，将stmt更新为新的累计覆盖数据。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海合见工业软件集团有限公司 成都融见软件科技有限公司 一种行覆盖率中毛刺的过滤方法、电子设备及存储介质
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