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申请/专利权人：东丽工程株式会社;塔斯米特株式会社
摘要：提供一种能够以简单的方法自动地检测用于拍摄包含缺陷的区域的最佳光学条件缺陷检查装置。缺陷检查装置1具备：光学显微镜10，其具备拍摄芯片31的图像的摄像部14；控制部20，其控制用于拍摄芯片的图像的光学条件；以及存储部25，其存储有预先检测出的芯片内的缺陷的位置，摄像部一边改变光学条件，一边拍摄第一图像以及第二图像，第一图像是存储在存储部中的包含缺陷的区域的图像，第二图像是与包含缺陷的区域相同的区域、且不包含缺陷的区域的图像，缺陷检查装置具备检测单元，该检测单元通过对第一图像的特征量和第二图像的特征量进行比较，检测用于拍摄包含缺陷的区域的最佳光学条件。
主权项：1.一种缺陷检查装置，其检查形成于晶片上的芯片内的缺陷，其中，所述缺陷检查装置包括：光学显微镜，其具备拍摄所述芯片的图像的摄像部；控制部，其控制用于利用所述光学显微镜拍摄所述芯片的图像的光学条件；以及存储部，其存储有预先检测出的所述芯片内的缺陷的位置，所述摄像部一边通过所述控制部改变所述光学条件，一边拍摄第一图像以及第二图像，所述第一图像是存储在所述存储部中的包含所述缺陷的区域的图像，所述第二图像是与包含所述缺陷的区域相同的区域、且不包含所述缺陷的区域的图像，所述缺陷检查装置具备检测单元，该检测单元通过对所述第一图像的特征量和所述第二图像的特征量进行比较，检测用于拍摄包含所述缺陷的区域的最佳光学条件。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东丽工程株式会社 塔斯米特株式会社 缺陷检查装置及缺陷检查方法
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