首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

溅射沉积设备及方法 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

申请/专利权人:戴森技术有限公司

摘要:本文描述的某些示例涉及一种溅射沉积设备,其包括用于在传送方向上引导基底的引导构件;用于产生等离子体的等离子体元;以及磁体装置。磁体装置配置成在设备内将等离子体限制到预处理区,在该预处理区内,基底在使用中暴露于等离子体。磁体装置还配置成在设备内将等离子体限制到溅射沉积区,以在使用中提供靶材料到基底的溅射沉积,该溅射沉积区在传送方向上位于预处理区之后。预处理区和溅射沉积区围绕引导构件设置。

主权项:1.一种溅射沉积设备,包括:引导构件,用于在传送方向上引导基底;等离子体源,用于产生等离子体;磁体装置,配置成在所述设备内将所述等离子体限制到:预处理区,基底在使用中在所述预处理区中暴露于所述等离子体;以及溅射沉积区,在所述传送方向上位于所述预处理区之后,用于在使用中将靶材料溅射沉积到所述基底;其中,所述预处理区和所述溅射沉积区围绕所述引导构件设置,其中,所述磁体装置包括一个或多个磁性元件,其提供限制磁场,以限制等离子体围绕引导构件在预处理区和溅射沉积区之间延伸。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 戴森技术有限公司 溅射沉积设备及方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。