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申请/专利权人：HOYA株式会社
摘要：本发明提供在通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时能够缩短过蚀刻时间、可以形成具有良好的截面形状的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案，图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，图案形成用薄膜具有柱状结构。
主权项：1.一种光掩模坯料，其在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，所述光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，所述光掩模是通过对所述图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而得到的在所述透明基板上具有转印图案的光掩模，所述图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，所述图案形成用薄膜具有在整个透明基板的面内形成了沿膜厚方向延伸的柱状粒子的柱状结构，所述图案形成用薄膜中存在密度相对高的上述柱状粒子的部分和密度相对低的稀疏部分，所述密度是通过截面SEM观察而得到的。
全文数据：
权利要求：
百度查询： HOYA株式会社 光掩模坯料、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法
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