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申请/专利权人：泉意光罩光电科技(济南)有限公司
摘要：本发明公开了一种光罩工艺误差修正方法，涉及元器件制造技术领域。该方法包括：根据预设曝光强度对器件进行曝光处理；获取曝光处理后的器件表面光罩图案的各区域的多个线宽，区域根据待形成图案的疏密程度划分有疏区和至少一个密区；根据密区的线宽与疏区的线宽的差值，以及每个密区所在的位置，计算密区的预设曝光强度的调整量。上述方法根据曝光处理后光罩图案的变化数据，对曝光光线的反射量进行预估，并对预设曝光强度进行调整，动态地修正光罩工艺中的参数，使得到的光罩图案的线宽在误差允许的范围内稳定波动，降低了光罩生产的成本，也使光罩的品质维持在较高的水平内。
主权项：1.一种光罩工艺误差修正方法，其特征在于，包括：根据预设曝光强度对器件进行曝光处理；获取曝光处理后的所述器件表面光罩图案的各个区域的多个线宽，所述区域根据待形成图案的疏密程度划分有疏区和至少一个密区；根据所述密区的线宽与所述疏区的线宽的差值，以及每个所述密区所在的位置，计算所述密区的所述预设曝光强度的调整量；所述根据所述密区的线宽与所述疏区的线宽的差值，以及每个所述密区所在的位置，计算所述密区的所述预设曝光强度的调整量包括：依据公式计算所述预设曝光强度的调整量，其中，Ex为预设图案处所述预设曝光强度的调整量，eta为所述曝光处理使用的光刻胶的反射系数，Dx’为相邻图案的光照强度，gx-x’为所述相邻图案反射至所述预设图案的光照强度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 泉意光罩光电科技(济南)有限公司 一种光罩工艺误差修正方法
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