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清洗槽结构、基站和清洁设备 

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申请/专利权人:深圳市杉川机器人有限公司

摘要:本实用新型公开了一种清洗槽结构和清洁设备。清洗槽结构包括清洗槽和刮条,清洗槽底面包括接触区,刮条位于清洗槽内;清洗槽结构配置为:拖布放置在刮条上的情况下,接触区与旋转及未旋转时的拖布直接接触。上述清洗槽结构中,在拖布放置在刮条上的情况下,接触区能够与旋转及未旋转时的拖布直接接触,进而在清洗拖布的过程中,旋转的拖布可以对接触区进行清洁,可避免或减少残留在清洗槽底面上的杂物,进而可避免清洗槽结构发臭或减少清洗槽结构发臭的机率。

主权项:1.一种清洗槽结构,其特征在于,包括:清洗槽,所述清洗槽底面包括接触区;刮条,所述刮条位于所述清洗槽内;所述清洗槽结构配置为:拖布放置在所述刮条上的情况下,所述接触区与旋转及未旋转时的所述拖布直接接触。

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权利要求:

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