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一种光刻掩膜板测量的限位装置 

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申请/专利权人:河南微纳半导体科技有限公司

摘要:本实用新型涉及曝光设备技术领域,公开了一种光刻掩膜板测量的限位装置,包括底板,所述底板顶部右侧设置有光刻主机,所述底板顶侧中部固定连接有限位块,所述限位块内部设置有放置台,所述放置台左侧设置有连接组件,所述放置台内侧中部固定连接有支撑轴,所述支撑轴顶端转动连接有齿轮二,所述齿轮二内部滑动连接有多个均匀分布的连接杆,多个所述连接杆顶部均固定连接有夹块,所述齿轮二一侧啮合连接有齿轮一,所述放置台内部固定连接有电机。本实用新型中,多个夹块之间的距离可以调节使多个夹块可以固定大小不同的掩膜板,两个连接轴一端插入电动推杆右端内部,从而实现放置台的快速安装。

主权项:1.一种光刻掩膜板测量的限位装置,包括底板6,其特征在于:所述底板6顶部右侧设置有光刻主机5,所述底板6顶侧中部固定连接有限位块7,所述限位块7内部设置有放置台4,所述放置台4左侧设置有连接组件,所述放置台4内侧中部固定连接有支撑轴15,所述支撑轴15顶端转动连接有齿轮二11,所述齿轮二11内部滑动连接有多个均匀分布的连接杆14,多个所述连接杆14顶部均固定连接有夹块12,所述齿轮二11一侧啮合连接有齿轮一9,所述放置台4内部固定连接有电机10,所述电机10驱动端固定连接在所述齿轮一9底部。

全文数据:

权利要求:

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