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申请/专利权人：长春理工大学中山研究院;中山吉联光电科技有限公司
摘要：本发明提供了一种透明电磁屏蔽抗摩擦复合膜及其制备方法，属于光学薄膜制备领域，具体包括将样品基底放入镀膜机样品架上抽真空，当真空度达到5.0×10‑4Pa时，对样品基底进行离子清洗预处理；清洗完成后，待真空度稳定在3.0×10‑4Pa时，薄膜沉积连接层，并进行离子束辅助沉积；薄膜沉积透明电磁屏蔽层；薄膜沉积增透膜层的第一层；薄膜沉积增透膜层的剩余层数，并进行离子束辅助沉积；待增透膜层沉积结束后，待真空度恢复到3.0×10‑4Pa时，采用电阻蒸发沉积耐摩擦层，本层不采用离子束辅助沉积工艺；然后停止抽真空和加温，开始自然降温，降至室温时，得到透明电磁屏蔽抗摩擦复合膜。通过本申请的处理方案，实现了透明、电磁屏蔽、耐摩擦等多功能特性。
主权项：1.一种透明电磁屏蔽抗摩擦复合膜的制备方法，其特征在于，包括：将样品基底放入镀膜机样品架上抽真空，在第一预定温度下烘烤第一时间，当真空度达到5.0×10-4Pa时，打开射频离子源对样品基底进行离子清洗预处理；清洗完成后，待真空度稳定在3.0×10-4Pa时，采用第一参数进行薄膜沉积连接层，并采用第一辅助参数进行离子束辅助沉积；采用第二参数进行薄膜沉积透明电磁屏蔽层，本层不采用离子束辅助沉积工艺；采用第三参数进行薄膜沉积增透膜层的第一层，本层不采用离子束辅助沉积工艺；采用第四参数进行薄膜沉积增透膜层的剩余层数，并采用第四辅助参数进行离子束辅助沉积；待所述增透膜层沉积结束后，待真空度恢复到3.0×10-4Pa时，采用电阻蒸发沉积耐摩擦层，本层不采用离子束辅助沉积工艺；然后停止抽真空和加温，开始自然降温，降至室温时，得到透明电磁屏蔽抗摩擦复合膜。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 长春理工大学中山研究院 中山吉联光电科技有限公司 透明电磁屏蔽抗摩擦复合膜及其制备方法
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