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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供一种能够精度良好地蚀刻基板的周缘部的基板处理装置。本公开的一形态的基板处理装置具备基板旋转部、气液分离部以及排气路径。基板旋转部保持基板并使该基板旋转。气液分离部以包围基板旋转部的外周的方式设置，使气体和液滴分离。排气路径以包围气液分离部的外周的方式设置，对由气液分离部分离后的气体进行排气。
主权项：1.一种基板处理装置，其具备：基板旋转部，其保持基板并使该基板旋转；气液分离部，其以与所述基板旋转部分离并且包围所述基板旋转部的外周的方式设置，使气体和液滴分离；以及排气路径，其以包围所述气液分离部的外周的方式设置，对由所述气液分离部分离后的气体进行排气，其中，所述气液分离部具有以使所述基板旋转部与所述排气路径的入口分离的方式从所述排气路径的入口的前方向下延伸的气液分离板，所述气液分离板具有锥面，所述锥面形成于所述气液分离板的顶端部并且设于所述气液分离板的靠所述基板旋转部侧的面。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 基板处理装置
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