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申请/专利权人：琳得科美国股份有限公司
摘要：公开了一种过滤形成的纳米结构护层膜。所述过滤形成的纳米结构护层膜包括多条碳纳米纤维，所述多条碳纳米纤维随机交叉以形成呈平面定向的互连网络结构。所述互连结构在厚度处于3nm的下限到100nm的上限范围内的情况下允许至少92％的高最小EUV透射率，以允许有效地进行EUV光刻处理。
主权项：1.一种纳米结构膜，所述纳米结构膜包括：多条碳纳米管，所述多条碳纳米管随机交叉以形成呈平面定向的互连网络结构，所述互连网络结构具有在3nm的下限到100nm的上限范围内的厚度和92％的最小EUV透射率，其中所述多条碳纳米管包括单壁碳纳米管、多壁碳纳米管和至少50％的双壁碳纳米管，其中单壁碳纳米管的壁数目是一，所述双壁碳纳米管的壁数目是二，并且所述多壁碳纳米管的壁数目是三个或更多个。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 琳得科美国股份有限公司 用于EUV光刻的超薄超低密度膜
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