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申请/专利权人：广纳四维(广东)光电科技有限公司
摘要：本发明公开了一种衍射光栅及其制备方法、增强显示设备，制备方法包括提供基底；在基底的至少一侧制备掩膜光栅；在掩膜光栅和基底的表面制备介质层，采用溶液腐蚀法，控制腐蚀参数对介质层的表面进行函数型表面搭建，获得预设曲面形貌的介质层；刻蚀介质层和部分基底，在基底形成介质层高度的转移；清洗去除掩膜光栅，获得具有至少两个光栅结构高度不同的衍射光栅。采用该制备方法，可以均衡出光，改善现有的衍射光波导存在整体出瞳不均匀的问题，提高AR显示的效果。
主权项：1.一种高度可调的衍射光栅的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括；提供基底；在所述基底的至少一侧制备掩膜光栅；在所述掩膜光栅和所述基底的表面制备介质层；采用溶液腐蚀法，控制腐蚀参数对所述介质层的表面进行函数型表面搭建，获得预设曲面形貌的介质层；刻蚀所述介质层和部分所述基底，在所述基底形成所述介质层高度的转移；清洗去除所述掩膜光栅，获得具有至少两个光栅结构高度不同的衍射光栅。
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权利要求：
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