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申请/专利权人：同济大学
摘要：本发明公开了一种基于自溯源光栅的电子束直写加工偏差校准修正方法，包括以下步骤:利用原子光刻技术制备标准光栅；获取涂有电子束光刻胶的衬底；生成特定周期的光栅GDS文件，并导入电子束光刻机的电脑，利用电子束光刻技术制备待测光栅；通过信号比对装置对标准光栅和待测光栅的周期信号进行计算和比对测量，得到电子束光刻制备的待测光栅的误差值；通过周期误差值反馈，在版图绘制中修改曝光版图的周期，并利用电子束光刻重新制备新光栅。本发明通过自溯源光栅修正电子束光刻制备光栅的周期误差，具有测量学上周期的自溯源性，可以为电子束光刻技术提供直接的精准标尺，解决了制备过程和传统测量方法带来的误差，减小了电子束光刻技术的误差。
主权项：1.一种基于自溯源光栅的电子束直写加工偏差校准修正方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、利用原子光刻技术制备标准光栅；S2、获取涂有电子束光刻胶的衬底；S3、生成特定周期的光栅GDS文件，并导入电子束光刻机的电脑里；S4、在涂有电子束光刻胶的衬底上，利用电子束光刻技术制备待测光栅；S5、通过信号比对装置计算得到标准光栅和待测光栅的周期信号；S6、将待测光栅的周期信号与标准光栅的周期信号进行比对测量，得到电子束光刻制备的待测光栅的误差值；S7、将周期误差值反馈给版图绘制部分，修改曝光版图的周期，并利用电子束光刻重新制备新光栅。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 同济大学 一种基于自溯源光栅的电子束直写加工偏差校准修正方法
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