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申请/专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
摘要：本发明涉及一种光学设备1，特别是用于光刻系统100、200，包括：具有至少一个光学表面3的至少一个光学元件2；具有用于倾斜光学元件2的光学表面3的一个或多个致动器4；以及具有用于感测光学表面3从静止位置的倾斜的测量装置5。根据本发明，测量装置5包括形成闭合测量部分7的至少一个波导6，其中波导6被设计为输入耦合并传播测量光束8的一种或多种模式，并且其中波导6被布置为使得光学表面3的倾斜影响传播通过波导6的测量光束8，其中测量装置5被设计为感测由光学表面3的倾斜引起的对测量光束8的影响。
主权项：1.一种光学设备1，特别是用于光刻系统100、200，具有包括至少一个光学表面3的至少一个光学元件2，并且具有用于倾斜所述光学元件2的所述光学表面3的一个或多个致动器4，并且具有用于感测所述光学表面3从静止位置的倾斜的测量装置5，其特征在于所述测量装置5包括形成闭合测量部分7的至少一个波导6，其中所述波导6被配置为输入耦合并允许测量光束8的一种或多种模式的传播，并且其中所述波导6被布置为使得所述光学表面3的倾斜影响传播通过所述波导6的所述测量光束8，其中所述测量装置5被配置为感测由所述光学表面3的倾斜引起的对所述测量光束8的影响。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 卡尔蔡司SMT有限责任公司 光学设备、用于测量光学元件的光学表面的实际倾斜的方法和光刻系统
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