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申请/专利权人：达高工业技术研究院(广州)有限公司
摘要：本发明公开了金属膜配线蚀刻液、金属膜配线的刻蚀方法及应用，涉及蚀刻液技术领域。以氧化性铈盐、有机磺酸、过氧类化合物、安定剂、功能化离子液体、氨基酸基低聚物、焦硫酸盐、醇醚类溶剂、Gemini表面活性剂和水为原料，各原料之间协同配合，过氧类化合物能够将蚀刻液中的还原态的CeIII离子进一步氧化还回成CeIV离子，实现CeIV离子的循环使用，通过协同醇醚类溶剂和氨基酸基低聚物以实现蚀刻液的长效寿命。制得的蚀刻液能够在不发生光刻胶抗蚀刻层渗透的前提下高效蚀刻铬金属膜配线结构，改善了现有的蚀刻液往往仅能满足某一种金属膜配线结构的蚀刻技术问题，可有效应用于不同规格铬及铬复合膜制程配线的蚀刻。
主权项：1.一种金属膜配线蚀刻液，其特征在于，按质量百分比计，包括：氧化性铈盐8％-25％、有机磺酸0.5％-9.5％、过氧类化合物2％-13％、安定剂0.5％-3.5％、功能化离子液体0.02％-1.0％、氨基酸基低聚物0.2％-2.5％、焦硫酸盐0.5％-3.5％、醇醚类溶剂0.8％-5.5％、Gemini表面活性剂0.05％-2.5％，余量为水。
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百度查询： 达高工业技术研究院(广州)有限公司 金属膜配线蚀刻液及其制备方法和应用
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