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申请/专利权人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心
摘要：本发明公开了一种大厚度光刻胶微结构的制备方法，包括：对基底进行无水乙醇超声清洗、纯水冲洗、高纯氮气吹干，在基底上采用磁控溅射法镀金属种子层，并采用六甲基二硅氮烷（HDMS）进行表面预处理；将干膜光刻胶在常温静置后预热处理，再对表面进行氩等离子体处理，采用真空吸附将基底固定在底板上，用滚轮贴覆干膜光刻胶，重复贴覆多次；贴覆后完成干膜光刻胶曝光、显影，然后清洗、后烘，最后得到光刻胶微结构。本发明采用干膜光刻胶多层贴覆；采用滚轮对单层干膜光刻胶热处理，可使膜层贴附平整并释放内应力；在每层干膜光刻胶贴覆之前，采用氩等离子体对干膜光刻胶表面预处理，以增强膜层之间的结合力，进一步提高成型质量。
主权项：1.一种大厚度光刻胶微结构的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、对基底进行用丙酮、异丙醇、无水乙醇按顺序进行超声清洗、纯水冲洗、高纯氮气吹干，然后在基底上采用磁控溅射法镀金属种子层，并采用六甲基二硅氮烷对金属种子层进行表面预处理；步骤二、将干膜光刻胶在常温静置，再对干膜光刻胶进行预热处理，然后再对干膜光刻胶表面进行氩等离子体处理，待用，采用真空吸附将基底固定在底板上，然后用滚轮在金属种子层上贴覆干膜光刻胶，重复贴覆多次；步骤三、贴覆完成后在干膜光刻胶上放上掩膜版，然后曝光、显影，曝光部分的干膜光刻胶被溶解，未曝光部分的干膜光刻胶保留下来，形成所需的光刻胶微结构，然后对光刻胶微结构进行清洗和后烘处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 一种大厚度光刻胶微结构的制备方法
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