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申请/专利权人：上海华力微电子有限公司
摘要：本实用新型提供一种隔振装置以及光刻设备，隔振装置包括：壳体、隔振组件以及垫片；壳体沿第一方向开放，用于供主体框架沿第一方向伸入壳体的内部；隔振组件的一端与壳体的内壁连接，另一端与主体框架之间留有距离，用于在外部产生震动时与主体框架相接触，以支撑主体框架并保证稳定；垫片设置于隔振组件与壳体的内壁之间，用于减小隔振组件与主体框架之间的距离。如此配置，通过在隔振组件和壳体的内壁之间设置垫片，减小在外部未发生震动时隔振组件与主体框架之间的距离，使得在外部发生震动时，主体框架在发生较小位移后即与隔振组件相接触，避免出现主体框架因位移空间较大，导致干涉计失光，从而引起光刻设备宕机，影响生产效率的问题。
主权项：1.一种隔振装置，其特征在于，包括：壳体、隔振组件以及垫片；所述壳体沿第一方向开放，用于供主体框架沿所述第一方向伸入所述壳体的内部；所述隔振组件的一端与所述壳体的内壁连接，另一端与所述主体框架之间留有距离，用于在外部产生震动时与所述主体框架相接触，以支撑所述主体框架并保证稳定；所述垫片设置于所述隔振组件与所述壳体的内壁之间，用于减小所述隔振组件与所述主体框架之间的距离。
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权利要求：
百度查询： 上海华力微电子有限公司 隔振装置以及光刻设备
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