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申请/专利权人：无锡翔域半导体有限公司
摘要：本实用新型公开了用于离子注入机的真空管路组件，涉及离子注入机技术领域，包括离子源工作腔室、真空泵和真空管道，所述真空泵设置于离子源工作腔室的底端，真空管道设置于离子源工作腔室的一侧；本实用新型不仅可以通过喇叭状的收集锥筒进行收集分散的离子，还可以收集锥筒的限位台阶和固定挡环对离子源工作腔室固定，保证了真空管道的轴线与离子源工作腔室相垂直，避免发生泄气造成真空状态被破坏，不仅可以通过挡板的预留槽和挡块的预留槽相连通开收集分散的离子，从而使得分散的离子从中心孔处射出，较多的离子从真空管道轴线方向射出，也可以将挡板的预留槽与挡块的预留槽相错开，避免分散的离子集中到中心孔处。
主权项：1.用于离子注入机的真空管路组件，包括离子源工作腔室1、真空泵2和真空管道3，所述真空泵2设置于离子源工作腔室1的底端，真空管道3设置于离子源工作腔室1的一侧，且真空管道3和离子源工作腔室1的内部相连通；其特征在于，所述真空管道3的内部且位于真空管道3与离子源工作腔室1相交处设置有收集结构4，所述收集结构4包括收集锥筒41，收集锥筒41设置于真空管道3的一端内部，且收集锥筒41的外圆面和真空管道3的内壁相交处开设有相互配合的第一螺纹43，收集锥筒41通过第一螺纹43与真空管道3的端部相连接，真空管道3的外圆面且位于与离子源工作腔室1相贴合处安装固定挡环42，固定挡环42的内壁与真空管道3的外壁之间开设有相互配合的第二连接44，固定挡环42通过第二连接44与真空管道3相连接。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 无锡翔域半导体有限公司 用于离子注入机的真空管路组件
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