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摘要：本发明公开了一种OVD光棒沉积工艺中的喷灯优化方法涉及光纤预制棒研发和制造技术领域，具体涉及一种用于优化改进的OVD即管外气相沉积法光棒沉积工艺的喷灯优化及其使用方法，通过调整喷灯位置、喷灯数量、喷灯旋转以及喷灯参数优化OVD沉积过程，有效解决了传统OVD工艺中存在的沉积效率低、喷灯易堵塞、沉积均匀性差等问题。通过光纤预制棒再下游拉丝的情况进行跟踪验证；该方法不仅提高了生产效率，还显著改善了光棒质量，为高品质光纤预制棒的规模化生产提供了重要技术支持。
主权项：1.一种OVD光棒沉积工艺中的喷灯优化方法，其特征在于：具体包含如下步骤：步骤1，调整喷灯位置和数量：将喷灯从正下方向上喷射改为双侧斜下喷射；具体而言，在沉积靶棒两侧各设置n个喷灯，其中，n≥1，喷灯与水平面夹角为α，其中0°α90°；步骤2，实现喷灯旋转：使每个喷灯在一定角度范围内进行左右旋转；旋转角度范围为±β，其中0°β≤45°，旋转频率为f，其中，0f≤10Hz；步骤3，优化喷灯参数：a喷灯间距：相邻喷灯之间的距离为L，其中，50mm≤L≤200mm；b喷灯到靶棒距离：喷灯喷口到靶棒表面的距离为D，其中，100mm≤D≤300mm；c火焰温度：调节喷灯火焰温度为T，其中，1500°C≤T≤2200°C；步骤4，控制沉积过程：a靶棒旋转：使靶棒以角速度ω旋转，其中，1rads≤ω≤10rads；b喷灯移动：使喷灯组沿靶棒轴向以速度v移动，其中，1mms≤v≤10mms。
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百度查询： 南京烽火星空通信发展有限公司 一种OVD光棒沉积工艺中的喷灯优化方法
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