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摘要：本发明公开了一种离子束诱导无掩膜沉积方法及应用，涉及固体材料纳米图案沉积技术领域，所述离子束诱导无掩膜沉积方法包括下列步骤：获取基底，基底表面部分覆盖有金属电极；在基底上滴加溶解有待沉积物质的溶液形成液池，液池至少部分覆盖金属电极表面；利用聚焦离子束对所述液池进行辐照处理，使液池中溶液在基底表面定向流动，形成预设图案；利用探针在所述液池和所述金属电极上构建三电极电化学体系，使预设图案中待沉积物质在外加电场作用下沉积形成固态材料预设图案。本发明提供的技术方案能够实现固体材料在基底表面的简单、灵活且精确的图案化沉积。
主权项：1.一种离子束诱导无掩膜沉积方法，其特征在于，包括下列步骤：获取基底，所述基底表面部分覆盖有金属电极；在所述基底上滴加溶解有待沉积物质的溶液形成液池，所述液池至少部分覆盖金属电极表面；利用聚焦离子束对所述液池进行辐照处理，使液池中溶液在基底表面定向流动，形成预设图案；利用探针在所述液池和所述金属电极上构建三电极电化学体系，使所述预设图案中待沉积物质在外加电场作用下沉积形成固体材料预设图案。
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百度查询： 北京大学 一种离子束诱导无掩膜沉积方法及应用
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