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一种光刻基片加工处理设备 

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摘要:本发明公开了一种光刻基片加工处理设备,涉及光刻基片技术领域,包括下支承板,所述下支承板的上表面固定安装有上安装板,所述下支承板的上表面中间位置处固定安装有支撑柱,所述支撑柱的上表面固定安装有用于固定光刻基片的固定机构;所述上安装板的上表面位于所述支撑柱的正上方位置处固定安装有升降气缸;通过输气机构和预处理机构的配合,在需要填充氮气时,通过转向电机带动转动套管进行转动,使其和固定座贴合,在不使用时使得转动套管的内部也处于密封状态,减少和外界的接触,在转动套管和固定套管贴合时,通过第一挡块来对其进行限位,在转动套管和固定座贴合时,通过第二挡块来对其进行限位。

主权项:1.一种光刻基片加工处理设备,其特征在于,包括下支承板1,所述下支承板1的上表面固定安装有上安装板2,所述下支承板1的上表面中间位置处固定安装有支撑柱5,所述支撑柱5的上表面固定安装有用于固定光刻基片的固定机构;所述上安装板2的上表面位于所述支撑柱5的正上方位置处固定安装有升降气缸3,所述升降气缸3的下方设置有用于辅助光刻基片稳定的输气机构;所述下支承板1的上表面左侧设置有用于对光刻基片进行增附剂涂覆的预处理机构;所述下支承板1的上表面右侧设置有用于维持光刻基片加工温度的导热机构。

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