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摘要：本发明公开了一种抽气机构、半导体器件的工艺设备和加工方法。抽气机构包括：侧抽环，位于反应腔内，环绕加热盘，并经由第一抽气通道连接抽气装置，其中，所述第一抽气通道中设有第一阀门；以及底抽环，位于所述反应腔内的所述加热盘的下方，并经由第二抽气通道连接所述抽气装置，其中，所述第二抽气通道中设有第二阀门。通过上述抽气机构，不仅结构简单实用，而且抽气应用时的灵活性高，能够根据工艺流程的需求切换、调节抽气模式，并且还能够提升反应腔内气体的抽气速率，以及抽气均匀性，从而提高设备产能。
主权项：1.一种抽气机构，其特征在于，包括：侧抽环，位于反应腔内，环绕加热盘，并经由第一抽气通道连接抽气装置，其中，所述第一抽气通道中设有第一阀门；以及底抽环，位于所述反应腔内的所述加热盘的下方，并经由第二抽气通道连接所述抽气装置，其中，所述第二抽气通道中设有第二阀门。
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百度查询： 拓荆科技(上海)有限公司 抽气机构、半导体器件的工艺设备和加工方法
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