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摘要：公开了减轻多射束设备中的库仑效应的系统和方法。该多射束设备可以包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，该第一孔阵列包括第一多个孔，该第一多个孔具有形状并且被配置为生成源自初级带电粒子束的多个初级子束；聚光透镜，包括沿着初级光轴可调的平面；以及第二孔阵列，该第二孔阵列包括第二多个孔，该第二多个孔被配置为生成与多个子束相对应的探测子束，其中多个探测子束中的每个探测子束包括至少基于聚光透镜的平面的位置和第二孔阵列的特性的对应初级子束的带电粒子的部分。
主权项：1.一种带电粒子束设备，包括：带电粒子源，被配置为沿着初级光轴生成初级带电粒子束；第一孔阵列，所述第一孔阵列包括第一多个孔，所述第一多个孔被配置为从所述初级带电粒子束生成多个初级子束；聚光透镜，包括能够沿着所述初级光轴进行调整的平面；以及第二孔阵列，所述第二孔阵列包括第二多个孔，所述第二多个孔被配置为生成多个探测子束，其中所述多个探测子束中的每个探测子束包括对应初级子束的带电粒子的部分，并且其中所述带电粒子的所述部分至少基于所述聚光透镜的所述平面的位置和所述第二孔阵列的特性来确定，其中所述第一多个孔包括多个离轴孔，其中所述多个离轴孔包括通过使第一离轴孔与第二离轴孔重叠而形成的孔，其中所述第一离轴孔使所述第二孔阵列能够生成第一离轴探测子束，并且所述第二离轴孔使所述第二孔阵列能够生成第二离轴探测子束。
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百度查询： ASML荷兰有限公司 多带电粒子束设备和方法
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