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摘要：本发明的巨量转移设备包括一基座、一激光装置及一转移头。激光装置连接基座，并用以产生一激光束。转移头连接基座，且包括一附接本体、一反射结构、多个附接部及一光学元件。附接本体包括一顶面及一底面。反射结构连接附接本体，且包括多个开口。多个附接部形成在该底面。且位在多个开口中的垂直投影范围。光学元件连接附接本体，且位在顶面，并包括多个透镜单元。其中，激光束投射在光学元件上，以通过多个透镜单元聚焦投射至多个附接部。
主权项：1.一种巨量转移设备，其特征在于，包括：一基座；一激光装置，连接该基座，并用以产生一激光束；及一转移头，连接该基座，且包括一附接本体、一反射结构、多个附接部及一光学元件，该附接本体包括一顶面及一底面，该反射结构连接该附接本体，且包括多个开口，该多个附接部形成在该底面，且位在该多个开口中的垂直投影范围，该光学元件连接该附接本体，且位在该顶面，并包括多个透镜单元，其中，该激光束投射在该光学元件上，以通过该多个透镜单元聚焦投射至该多个附接部。
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百度查询： 东捷科技股份有限公司 巨量转移设备
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