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摘要：本发明提出用于晶圆背面清洗的喷嘴装置及清洗装置。该喷嘴装置包括固定件、至少一个液体通道和至少一个气体通道；每一液体通道分别对应设置液体输入口和液体输出口，每一气体通道分别对应设置气体输入口和气体输出口；液体通道用于传输液体；气体通道用于输送气体；固定件被配置为固定液体通道的液体输出口和气体输出口；其中，气体输出口的水平高度高于固定件上端面的水平高度。通过本发明解决了晶圆清洗时液体容易进入气体输出口以及用于提供干燥气体的气体通道中的问题，有效防止晶圆背面清洗后利用干燥气体干燥时液体对晶圆背面产生刻蚀的现象的发生，提高了晶圆的加工良率；同时解决液体进入用于提供干燥气体的气体通道中产生污染的问题。
主权项：1.一种用于晶圆背面清洗的喷嘴装置，其特征在于：包括一固定件、至少一个液体通道和至少一个气体通道；每一所述液体通道分别对应设置液体输入口和液体输出口，每一所述气体通道分别对应设置气体输入口和气体输出口；所述液体通道用于传输液体；所述气体通道用于输送气体；所述固定件被配置为固定所述液体输出口和所述气体输出口；其中，所述气体输出口的水平高度高于所述固定件上端面的水平高度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 用于晶圆背面清洗的喷嘴装置及清洗装置
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