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一种热熔胶反应釜清洁装置 

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摘要:本发明公开了一种热熔胶反应釜清洁装置,包括放置在反应釜口上的圆板,所述圆板的底部设置有上下移动正反转机构,所述上下移动正反转机构的底部设置有对反应釜的内壁进行清理的清理刮除组件,所述上下移动正反转机构带动清理刮除组件进行上下往复移动并进行间歇水平正反转;本发明涉及反应釜清洁技术领域。该热熔胶反应釜清洁装置,通过上下移动正反转机构的设置,带动清理刮除组件在反应釜内进行上下往复移动,同时带动刮片进行水平间歇往复的正反转运动,进而利用刮片的正转和反转对反应釜内壁进行清理,正反转结合使用,相当于对内壁进行了两次不同角度的清理,能够更彻底地去除附着在内壁上的污垢和胶体,使内壁更加干净。

主权项:1.一种热熔胶反应釜清洁装置,包括放置在反应釜口上的圆板(1),其特征在于:所述圆板(1)的底部设置有上下移动正反转机构(2),所述上下移动正反转机构(2)的底部设置有对反应釜的内壁进行清理的清理刮除组件(3),所述上下移动正反转机构(2)带动清理刮除组件(3)进行上下往复移动并进行间歇水平正反转;所述清理刮除组件(3)包括设置在上下移动正反转机构(2)下方的十字板(31),所述十字板(31)的顶部固定有四个固定座(32),四个所述固定座(32)的一侧均固定有电动伸缩杆(33),四个所述电动伸缩杆(33)的输出端均固定有竖板(34),四个所述竖板(34)的一侧均固定有刮片(35),四个所述刮片(35)的一侧均与反应釜的内壁接触。

全文数据:

权利要求:

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