龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
摘要：本实用新型提供了一种提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置，所述提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置包括反应腔室、样品台和微波组件，反应腔室顶部中心设有进气口，底部侧面均匀开设有多个出气口；样品台在反应腔室内，与反应腔室底部中心连接；微波组件设在反应腔室一侧，与反应腔室连接并连通。本实用新型提供的提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置，在底部均匀开设有至少四个出气口，改变了气体流动方式，提高了腔室内气体流场分布均匀性，从而提高衬底表面温度、腔室内活性基团分布均匀性，进而提高金刚石膜的质量和均匀性。
主权项：1.一种提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置，其特征在于，包括：反应腔室2，顶部中心设有进气口10，底部侧面均匀开设有多个出气口11，多个所述出气口11至少为四个；样品台3，在所述反应腔室2内，与所述反应腔室2底部中心连接，所述样品台3上适于放置衬底；以及微波组件，设在所述反应腔室2一侧，与所述反应腔室2连接并连通，用来向所述反应腔室2内发射微波。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国电子科技集团公司第四十六研究所 提高金刚石膜均匀性的MPCVD装置
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号