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摘要：本发明涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种原子层沉积镀膜设备的化学源导入系统，所述化学源导入系统包括若干化学源导入管路和阀座底板，所述若干化学源导入管路通过气体导入法兰安装在所述阀座底板上，在所述阀座底板上设置有阀座底板加热器，位于所述气体导入法兰真空侧的所述化学源导入管路的外围另设置有真空侧加热器；所述阀座底板加热器和所述真空侧加热器联合对所述化学源导入管路进行多段加热。本发明的优点是：实现多种化学源的同时导入，并且不会造成冷凝；对每种化学源进行多段式加热，进一步缩短工艺循环的时间；保证原子层沉积镀膜工艺成膜效果，避免产品存在成膜颗粒的问题，提高产品质量。
主权项：1.一种原子层沉积镀膜设备的化学源导入系统，用以将化学源导入真空镀膜室中，其特征在于：所述化学源导入系统包括若干化学源导入管路和阀座底板，所述若干化学源导入管路通过气体导入法兰安装在所述阀座底板上，在所述阀座底板上设置有阀座底板加热器，位于所述气体导入法兰真空侧的所述化学源导入管路的外围另设置有真空侧加热器；所述阀座底板加热器和所述真空侧加热器联合对所述化学源导入管路进行多段加热；所述化学源导入系统包括一独立气体吹扫管路；在所述真空镀膜室内，所述独立气体吹扫管路的出口与任一所述化学源导入管路的输送管路出口之间相互独立；所述独立气体吹扫管路用于进行持续性吹扫以控制所述化学源导入管路在导入化学源时的气体流动方向；所述若干化学源导入管路在位于所述气体导入法兰真空侧的所述真空镀膜室内的伸出长度不同，即各所述化学源导入管路的输送管路出口相错。
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百度查询： 光驰科技(上海)有限公司 一种原子层沉积镀膜设备的化学源导入系统
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