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摘要：本发明公开一种挡片及其制备方法、刻蚀终点的确认方法和循环使用方法，其中，挡片包括衬底；设置在衬底上的、用于避免铝刻蚀反应腔刻蚀到衬底的阻挡层；和设置在阻挡层上的铝金属层。由于本发明挡片的铝金属层在铝刻蚀反应腔进行刻蚀的过程中能够生成有效的聚合物沉积在反应腔的内壁上，能够消耗一部分等离子体以降低刻蚀速率，能有效改善铝刻蚀反应腔因PM导致的刻蚀速率变快的问题，并且可以通过将铝金属层完全刻蚀掉，使刻蚀等离子体接触到阻挡层，从而能够反映出刻蚀终点，从而能够根据反映的刻蚀终点监控反应腔是否出现异常。
主权项：1.挡片，其特征在于，包括衬底；设置在所述衬底上的、用于避免铝刻蚀反应腔刻蚀到所述衬底的阻挡层；和设置在所述阻挡层上的铝金属层。
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百度查询： 粤芯半导体技术股份有限公司 挡片及其制备方法、刻蚀终点的确认方法和循环使用方法
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