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摘要：本发明属于液晶盒厚度检测技术领域，尤其公开了基于低相干光Michelson干涉的LCoS液晶盒厚度全局检测装置，包括纳米定位台、成像系统、计算机、照明系统、Michelson干涉物镜和硅基液晶盒，所述成像系统包括第一分光棱镜、成像透镜和面阵相机，所述照明系统包括低相干光源、聚光透镜和投影透镜。本发明通过测量盖板玻璃下表面的三维形貌数据和硅基底板上表面的三维形貌数据，并将两个面的三维形貌数据拟合成平面，通过计算两个拟合平面在垂直方向上的坐标差值计算得到硅基液晶盒的厚度H，由于装置具有大视场的特性，且视场可覆盖硅基液晶盒的尺寸，因此能够实现对硅基液晶盒厚度的全局测量，测量速度快、准确度高、精度高。

主权项：1.基于低相干光Michelson干涉的LCoS液晶盒厚度全局检测装置，其特征在于：包括纳米定位台（14）、成像系统（401）、计算机（17）、照明系统（18）、Michelson干涉物镜（19）和硅基液晶盒（20），所述成像系统（401）包括第一分光棱镜（4）、成像透镜（15）和面阵相机（16），所述照明系统（18）包括低相干光源（1）、聚光透镜（2）和投影透镜（3），照明系统（18）通过低相干光源（1）连接计算机（17），低相干光源（1）发出的光通过聚光透镜（2）聚合后，通过投影透镜（3）投影到成像系统（401）的第一分光棱镜（4）上，第一分光棱镜（4）将光照射到Michelson干涉物镜（19）内部，所述硅基液晶盒（20）包括盖板玻璃（11）、多个间隔子（12）和硅基底板（13），在多个间隔子（12）之间添加液晶，所述硅基液晶盒（20）对应放置在纳米定位台（14）顶面，纳米定位台（14）通过导线连接计算机（17），所述纳米定位台（14）上设置有压电陶瓷，计算机（17）控制纳米定位台（14）工作，纳米定位台（14）通过压电陶瓷在垂直方向实现对硅基液晶盒（20）的纳米级定位，光经过Michelson干涉物镜（19）对硅基液晶盒（20）进行照射，经过硅基底板（13）顶面或盖板玻璃（11）底面反射的光返回到Michelson干涉物镜（19）的内部，在Michelson干涉物镜（19）中形成干涉光后传输到第一分光棱镜（4）中，第一分光棱镜（4）将干涉光通过成像透镜（15）成像到面阵相机（16）内部，面阵相机（16）将干涉光的光强数据传输给计算机（17），计算机（17）根据干涉光的光强数据从而全局检测硅基液晶盒（20）的液晶厚度。

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