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摘要：本申请公开了一种原子层沉积镀膜方法，该镀膜方法包括至少一个镀膜循环工艺，镀膜循环工艺包括：向容置有基体的反应装置内通入第一工艺气体，其中，第一工艺气体包括第一反应气体和惰性气体，且第一工艺气体的通入时长范围为0.1s‑5s；封闭反应装置，使第一工艺气体扩散吸附至基体的待镀膜表面；对反应装置进行第一吹扫处理；向反应装置内通入第二工艺气体，其中，第二工艺气体包括第二反应气体和惰性气体，且第二工艺气体的通入时长范围为0.1s‑5s；封闭反应装置，使第二工艺气体扩散吸附至基体的待镀膜表面；对反应装置进行第二吹扫处理。通过上述方式，本申请能够保证沉积钝化膜的效果的同时降低绕镀问题。
主权项：1.一种原子层沉积镀膜方法，其特征在于，所述镀膜方法包括至少一个镀膜循环工艺，所述镀膜循环工艺包括：向容置有基体的反应装置内通入第一工艺气体，其中，所述第一工艺气体包括第一反应气体和惰性气体，且所述第一工艺气体的通入时长范围为0.1s-5s；封闭所述反应装置，使所述第一工艺气体扩散吸附至所述基体的待镀膜表面；对所述反应装置进行第一吹扫处理；向所述反应装置内通入第二工艺气体，其中，所述第二工艺气体包括第二反应气体和所述惰性气体，且所述第二工艺气体的通入时长范围为0.1s-5s；封闭所述反应装置，使所述第二工艺气体扩散吸附至所述基体的待镀膜表面；对所述反应装置进行第二吹扫处理。
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权利要求：
百度查询： 江苏微导纳米科技股份有限公司 一种原子层沉积镀膜方法
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