龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
摘要：本发明涉及含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物及图案形成方法。本发明提供能够改善在以酸作为催化剂的化学增幅抗蚀剂形成的微细图案中的LWR、CDU的抗蚀剂下层膜。含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物含有热硬化性含硅材料Sx、硬化催化剂Xc及溶剂，且该硬化催化剂Xc从利用该含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物形成的抗蚀剂下层膜到于该抗蚀剂下层膜上形成的抗蚀剂上层膜的扩散距离为5nm以下。
主权项：1.一种含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物，含有热硬化性含硅材料Sx、硬化催化剂Xc及溶剂，所述硬化催化剂Xc从利用所述含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物形成的抗蚀剂下层膜到所述抗蚀剂下层膜上形成的抗蚀剂上层膜的扩散距离为5nm以下；所述硬化催化剂Xc是锍盐Xc-1、錪盐Xc-2、鏻盐Xc-3、铵盐Xc-4、或具有它们作为一部分结构的聚硅氧烷Xc-10、或碱金属盐，所述锍盐Xc-1为硝酸叔丁基三苯基锍，所述錪盐Xc-2为硝酸二苯基錪，所述鏻盐为硝酸四苯基鏻，和所述铵盐Xc-4为三氟乙酸四丁基铵或硝酸四丙基铵。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物及图案形成方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号