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摘要：长波红外光学系统中的锥镜涉及长波红外光学领域，弥补了8μm～12μm远红外波段的锥镜膜厚均匀性的技术空白。本发明提出在锥镜上制备入射波长为8μm～12μm反射率小于0.5％的长波红外减反射膜，利用EssentialMacleod软件，在ZnS基片上完成了长波红外减反射膜的膜系设计。采用物理气相沉积方法，选择n＝4.3@10μm的Ge做基片和镀膜材料的粘结层，n＝2.2@10μm的ZnS为高折射率材料，n＝1.35@10μm的YF3为低折射率材料，完成了光学薄膜的制备。利用Lamda1050光谱仪测试了锥镜的反射光谱曲线和薄膜厚度均匀性测试曲线，结果表明所研制的膜层在8μm～12μm处反射率均值为1.483％，对试验件开展了环境适应性测试，测试结果满足使用要求。

主权项：1.长波红外光学系统中的锥镜，其特征在于，该锥镜上镀长波红外减反射膜；所述镀膜锥镜的透射波长为8μm～12μm，基片材料为Ge，所述基片上依次重复制备ZnS、YF3、ZnS、YF3……ZnS和YF3薄膜，反射率小于2％；膜厚均匀性大于99％；采用物理气相沉积方法，选择Ge做基片和镀膜材料的粘结层，ZnS为高折射率材料，YF3为低折射率材料；在光学镀膜机上镀膜，当真空度达到5.0×10-4Pa时给基片加温，待温度达220℃时维持30min，开启离子源轰击20min，当真空室内真空度达到2.0×10-4Pa时开始蒸镀，为提高膜层牢固性，镀膜时采用Kaufman离子源辅助沉积；所述Ge薄膜沉积时衬底温度为220℃，真空度为2.0×10-4Pa，沉积率为0.3nm·s-1，Ar的流速为15sccm；所述ZnS薄膜沉积时衬底温度为220℃，真空度为2.0×10-4Pa，沉积率为0.5nm·s-1，Ar的流速为25sccm；所述YF3薄膜沉积时衬底温度为220℃，真空度为2.0×10-4Pa，沉积率为0.7nm·s-1，Ar的流速为5sccm；所述Ge薄膜的入射波长为10nm时，折射率为4.3，透光波长为1.7～23nm；所述ZnS薄膜的入射波长为10nm时，折射率为2.2，透光波长为0.4～14nm；所述YF3薄膜的入射波长为10nm时，折射率为1.35，透光波长为0.3～15nm。

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