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摘要：本发明涉及一种低温欠压印法制备聚合物阵列纳米喷针的方法及纳米喷针；本发明结合浇注法和氧等离子体处理制备了“三明治”微米喷针模具；采用“三明治”微米喷针模具通过低温欠压印法制备了喷针纳米沟道同时采用光刻技术制备了喷针微米沟道；最后采用热键合法密封了喷针微纳米沟道，并采用湿法刻蚀方法去除掉牺牲层二氧化硅层获得针尖悬空的聚合物阵列纳米喷针。本发明公开的一种低温欠压印法制备聚合物阵列纳米喷针的方法及纳米喷针，制造的微米模具成本低廉、更易于实现；在热压的过程中，使用微米凸模具进行欠热压即可获得纳米图形；采用成本低廉的微米模具在低温下即可获得纳米图形，具有很大的市场应用价值。

主权项：1.一种低温欠压印法制备聚合物阵列纳米喷针的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，制备聚合物阵列纳米喷针盖板和未键合的聚合物阵列纳米喷针，进入步骤2；所述未键合的聚合物阵列纳米喷针的制备方法包括以下步骤：采用浇注法制备“三明治”微米喷针模具，通过“三明治”微米喷针模具采用低温欠压印法制造未键合的聚合物阵列纳米喷针；采用浇注法制备“三明治”微米喷针模具包括以下步骤：步骤a1，对微米硅模具进行疏水处理；步骤a2，将PDMS混合溶液浇注在疏水处理后的微米硅模具上，并放置在烘箱中固化，获得PDMS微米凸模具；步骤a3，将PDMS微米凸模具、喷针掩模版和玻璃分别进行亲水处理；步骤a4，分别对PDMS微米凸模具和喷针掩模版进行键合、PDMS微米凸模具和玻璃进行键合，将喷针掩模版夹在PDMS微米凸模具和玻璃之间，获得“三明治”微米喷针模具；通过“三明治”微米喷针模具采用低温欠压印法制造未键合的聚合物阵列纳米喷针包括以下步骤：步骤a5，在带有一层二氧化硅层的硅基底上旋涂一层光刻胶，通过紫外曝光获得聚合物阵列纳米喷针基底；步骤a6，随即在聚合物阵列纳米喷针基底上旋涂一层光刻胶；将步骤a4中获得的“三明治”微米喷针模具与旋涂有光刻胶的聚合物阵列纳米喷针基底用夹具固定，放置在烘箱中进行低温欠压印，获得喷针纳米沟道；步骤a6中，在聚合物阵列纳米喷针基底上旋涂一层SU-8光刻胶；将“三明治”微米喷针模具与旋涂有SU-8光刻胶的硅基底用夹具固定，放置于在35~65℃烘箱中进行低温欠压印，获得喷针纳米沟道；步骤a7，采用紫外光透过“三明治”微米喷针模具中的喷针掩模版对光刻胶进行曝光，获得喷针微米沟道；获得未键合的聚合物阵列纳米喷针；所述聚合物阵列纳米喷针盖板的制备方法包括以下步骤：步骤b1，通过在PDMS基底上旋涂光刻胶进行光刻图形化制备聚合物阵列纳米喷针盖板；步骤2，分别对聚合物阵列纳米喷针盖板和未键合的聚合物阵列纳米喷针进行氧等离子体处理，进入步骤3；步骤3，将经过步骤2处理后的聚合物阵列纳米喷针盖板和未键合的聚合物阵列纳米喷针进行热键合，获得密封的聚合物阵列纳米喷针；步骤4，将热键合后的聚合物阵列纳米喷针从烘箱中取出并冷却至室温；并揭除热键合后的聚合物阵列纳米喷针上的PDMS基底；步骤5，将经过步骤4处理后的聚合物阵列纳米喷针刻蚀掉二氧化硅层；获得针尖悬空的聚合物阵列纳米喷针。

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