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摘要：本实用新型属于晶圆刻蚀设备技术领域，具体地说是一种晶圆刻蚀设备的晶圆背面防污染结构，包括晶背防护罩，还包括若干组配合设置的直喷管、螺纹堵头及弹性涨紧圈，晶背防护罩的顶部上开设有若干个喷管安装孔道，每个喷管安装孔道分别与对应的一组直喷管、螺纹堵头及弹性涨紧圈配合使用。本实用新型的晶圆刻蚀设备的晶圆背面防污染结构，能够方便可靠地安装直喷管，且可确保安装后直喷管准确保持预设角度，占用的安装空间更小，可使晶圆与晶背防护罩顶面之间保持更小的间隙，且晶圆与晶背防护罩顶面之间的空间中的设置结构也较为简单，更不容易产生紊流，可以更有效避免刻蚀药液污染晶圆背面，保证晶圆背面的防污染效果。
主权项：1.一种晶圆刻蚀设备的晶圆背面防污染结构，其特征在于：包括晶背防护罩1，还包括若干组配合设置的直喷管2及紧固堵头组件；所述晶背防护罩1的底端安装于晶圆刻蚀设备的主体腔体上，所述晶背防护罩1的顶部上开设有若干个喷管安装孔道5，每个所述喷管安装孔道5分别与对应的一组直喷管2及紧固堵头组件配合使用；每组的所述直喷管2被同组的紧固堵头组件固定在对应的喷管安装孔道5中。
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百度查询： 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种晶圆刻蚀设备的晶圆背面防污染结构
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