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一种用于半导体晶圆清洗喷头冲压模具及其冲压方法 

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摘要:本发明涉及半导体晶圆清洗喷头冲压相关技术领域,具体是一种用于半导体晶圆清洗喷头冲压模具及其冲压方法,包括上模具、冲压伸缩杆和下模具以及冲压组件,所述上模具上的冲压处活动安装有冲压伸缩杆,所述冲压伸缩杆上的冲压驱动处设置有下模具,所述冲压组件上的冲压活动处设置有下模具,模具冲压组件,安装在所述上模具上;深模冲压组件,设置在所述上模具上,在本发明中,深模孔针对半导体晶圆清洗喷头小孔,依靠上模具和下模具冲压驱动压制,不需要多次更换模具进行小孔冲压,同时结合拉深模的现有经验,进行深孔倾斜冲压,只需螺纹拆卸内置模具滑块即可,利于连续生产冲压半导体晶圆清洗喷头倾斜孔。

主权项:1.一种用于半导体晶圆清洗喷头冲压模具,包括上模具1、冲压伸缩杆4和下模具5以及冲压组件,所述上模具1上的冲压处活动安装有冲压伸缩杆4,所述冲压伸缩杆4上的冲压驱动处设置有下模具5,所述冲压组件上的冲压活动处设置有下模具5,其特征在于:还包括设置有,模具冲压组件,安装在所述上模具1上;深模冲压组件,设置在所述上模具1上;其中,所述上模具1中部固定连接有半导体晶圆冲压板8,所述半导体晶圆冲压板8上的冲压处固定有冲压杆3,所述半导体晶圆冲压板8两侧设置有冲压孔2,所述冲压伸缩杆4上的冲压驱动处设置有伸缩冲压架6,所述下模具5底端中部固定有半导体晶圆模具7。

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